►Savoir faire
La plateforme Nano-Rennes dispose d’un ensemble d’équipements permettant de réaliser des opérations thermiques de différentes natures. Ces opérations visent à réaliser des :
- Traitements thermiques d’oxydation (humide ou sèche) de Si
- Dopages par diffusion
- Traitements thermiques (haute ou basse) température de contacts ohmiques
►Description des équipements de traitement thermique
5 fours haute température (600-1100 °C) pour Si AET(IETR-GM)
- Four d’oxydation humide (N2, H2N2, H2O)
- Four d’oxydation sèche (N2, H2N2, O2)
- Four de dopage par diffusion de Bore (N2, N2H2)
- Four de recuit Al (N2, N2H2)
- Spécifictés :
- Substrat de 2 pouces
- Chariot de chargement 20 plaques
- Vide primaire (10-3 mbar)
- Substrat de 2 pouces
Four de recuit rapide RTA ADAX (FOTON-INSA)
- Gaz : H2N2
- Température : 100-1100 °C (halogène)
- Spécificités :
- Plaque 2 pouces
- Vide primaire (10-3 mbar)
- Plaque 2 pouces
Four de recuit basse température (FOTON-INSA)
- Gaz : N2
- Température : 50-400 °C
- Spécificité :
- Susbtrat 2 pouces
Laser excimer de recrystallisation Lambda-Physics (IETR-GM)
- l=
- Impulsion =, Pmax =
►Exemples de réalisations
