PLATEFORME DE TECHNOLOGIE DE PROXIMITE NANORENNES
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    ►Présentation
    Domaine de compétences

    ►Présentation

Créée en 2001, la plateforme NanoRennes est issue de la volonté du CNRS de mutualiser les équipements dédiés à la micro-nanofabrication. Cette plateforme consiste en la mutualisation des moyens technologiques et humains des laboratoires  DMM-IETR (Département Microélectronique & Microcapteur-IETR)et FOTON-INSA de Rennes.
A ce titre, et en complément du réseau national des 6 grandes centrales de technologie du CNRS (RTB), Nano-Rennes a intégré le réseau des 9 plateformes de technologie de proximité dit de second cercle
du CNRS.

Elle constitue à ce titre, avec la plateforme RTB de l'IEMN des centrales de technologie de référence du C'nano grand nord ouest . Les missions de Nanorennes consistent donc à réaliser des prestations en nano-micro-fabrication, en soutien des laboratoires académiques et industrielles au niveau régional et national, à hauteur de ses compétences et savoir-faire, en soutien aux plateformes du RTB.



CNRScartographie plateformes C Nano Nord ouest
Cartographie nationale des plateformes de technologie des réseaux RTB (points jaunes) et de proximité (points rouges).

 


    ►Domaine de compétences
Les domaines de compétence de la plateforme Nano-Rennes concerne principalement les technologies de micro et nanofabrication à vocation applicative dans des domaines d'activités variés tels que la microélectronique, l'optoélectronique, la chimie et la bio-physique.
La particularité de la plateforme est de regrouper sur un même site, un fort savoir dans la croissance et la technologie associée aux filières Silicium et III-V (principalement InP).
Les domaines d’excellence sont :
            - la microtechnologie pour la réalisation de capteurs (MEMS, bio-chimiques)
            -  la croissance de nanostructures quantiques (puits, fils et boîtes quantiques)
            - la croissance et le processing de composés silicium basse température (applications TFT, MEMs)
            - la microtechnologie photonique (lasers, micro-cavités, VCSELs, cellules solaires)
           - l’intégration hétérogène et/ou homogène des filières optoélectroniques et microélectroniques (hétéroépitaxie de composés III-V sur Si, report par collage (bonding) sur Si)