PLATEFORME DE TECHNOLOGIE DE PROXIMITE NANO-RENNES
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    ►Présentation
    Domaine de compétences

    ►Présentation

Créée en 2001, la plateforme Nano-Rennes est issue de la volonté du CNRS de mutualiser les équipements dédiés à la micro-nanofabrication. Cette plateforme consiste en la mutualisation des moyens technologiques et humains des laboratoires IETR-GM et FOTON-INSA de Rennes.
A ce titre, et en complément du réseau national des 6 grandes centrales de technologie du CNRS (RTB), Nano-Rennes a intégré le réseau des 9 plateformes de technologie de proximité dit de second cercle
du CNRS.

Elle constitue à ce titre, avec la plateforme RTB de l'IEMN des centrales de technologie de référence du C'nano grand nord ouest pour le soutien technologique de projets de recherche des laboratoires régionaux.



CNRScartographie plateformes C Nano Nord ouest
Cartographie nationale des plateformes de technologie des réseaux RTB et de proximité

 


    ►Domaine de compétences
Les domaines de compétence de la plateforme Nano-Rennes concerne principalement les technologies de micro et nanofabrication à vocation applicative dans des domaines d'activités variés tels que la microélectronique, l'optoélectronique, la chimie et la bio-physique.
La particularité de la plateforme est de regrouper sur un même site, un fort savoir dans la croissance et la technologie associée aux filières Silicium et III-V (principalement InP).
Les domaines d’excellence sont la microtechnologie pour la réalisation de capteurs (MEMS, bio-chimiques), la croissance de nanostructures quantiques (puits, fils et boîtes quantiques), la croissance de composés silicium basse température (applications TFT, MEMs), la microtechnologie photonique (lasers, micro-cavités, VCSELs), et l’intégration hétérogène et/ou homogène des filières optoélectroniques et microélectroniques (hétéroépitaxie de composés III-V sur Si) pour le développement de nouvelles fonctionnalités sur Si (lasers, MOS à forte mobilité (III-V), cellules photovoltaïques à grande efficacité).