►Savoir faire

La plateforme Nano-Rennes est dotée d’un ensemble d’aligneurs de lithographie, lui permettant d’assurer en standard des motifs de résine de dimension micronique (1 µm), sub-micronique (0.7 µm), voire nanométrique (50 nm) sur des procédés de lithographie émergents. A ces aligneurs s’ajoutent plusieurs postes d’enduction de résine et de traitement thermique. L’ensemble de ces postes de travail est situé dans des ambiances de classe 100.
Trois types d’aligneurs équipent la plateforme :

• Photolithographie UV (UV4 365-435 nm)  : dimension minnimale 1 µm
• Photolithographie deep-UV (UV3 248 nm) : dimension minnimale 0.7 µm
• Lithographie par nano-impression : dimension minimale 50 nm

►Description des équipements de lithographie

Aligneurs UV