►Savoir faire
La plateforme Nano-Rennes réalise des gravures sur tout un ensemble de matériaux, par voie humide ou encore par voie sèche. Les traitements chimiques sont réalisés sous hotte chimique. Les gravures par voie sèche utilisent des réacteurs de gravure ionique réactive (RIE) dédiés.
De manière générique, la plateforme maitrise les gravures humides et/ou sèches associées aux :
- Matériaux de la filière Si (Si, Si3N4, SiO2, Ge, SiGe, …)
- Matériaux de la filière InP (InAs, InGaAs, InAlAs, InGaAsP, InAlGaAs)
- Matériaux polymères (photorésine, BCB, …) et métalliques (In, Au, Ti, Ge, …)
►Description des équipements de gravure
Gravure sèche
Délaqueur Plasmafab ETA Electrotech (FOTON-INSA)
Gaz : O2
Délaquage de rélicats de résine
Spécificités :
- Vide primaire (10-3 mbar)