PLATEFORME DE TECHNOLOGIE DE PROXIMITE NANO-RENNES
EQUIPEMENT : TRAITEMENTS THERMIQUES
     
    ►Savoir Faire
    ►Description des équipements de gravure
    ►Exemples de réalisations

    ►Savoir Faire
La plateforme Nano-Rennes dispose d'un ensemble d'équipement permettant de réaliser des traitements thermiques de différentes natures. Ces traitements vis à réaliser des :  - traitements thermiques d'oxydation (humide ou sèche) de Si
                    - dopages par diffusion
                    -  traitements thermiques (haute ou basse) température de contacts ohmiques

­    ►Description des équipements de gravure
Four oxydation 5 fours haute température (600-1100 °C) pour Si AET(IETR-GM)
    ► four d'oxydation humide (N2, H2N2, H2O)
    ► four d'oxydation sèche (N2, H2N2, O2)
    ► four de dopage par diffusion de Bore -N2, N2H2)
    ► four de recuit Al (N2, N2H2)

Spécificté : - substrat de 2 pouces
                 - chariot de chargement 20 plaques

              - vide primaire (10-3 mbar)
RTAFour de recuit rapide RTA ADAX (FOTON-INSA)
    ► gaz : H2N2
    ► température : 100-1100 °C (halogène)

spécificité : - plaque 2 pouces
                - vide primaire (10-3 mbar)
hot-plateFour de recuit basse température (FOTON-INSA)
    ► gaz : N2
    ► température : 50-400 °C

Spécificité : susbtrat 2 pouces
Laser excimer de recrystallisation Lambda-Physics (IETR-GM)
     - l=
     - impulsion =, Pmax =



   ►Exemples de réalisations
RTA Profil RTA
Impact du recuit RTA sur contact n sur InPProfil de température RTA de recuit @375 °C d'un contact n (VCSEL)